Quins són els gasos de gravat utilitzats habitualment en el gravat sec?

La tecnologia de gravat en sec és un dels processos clau. El gas de gravat sec és un material clau en la fabricació de semiconductors i una important font de gas per a gravat plasmàtic. El seu rendiment afecta directament la qualitat i el rendiment del producte final. Aquest article comparteix principalment quins són els gasos de gravat habitualment utilitzats en el procés de gravat sec.

Gasos basats en fluor: com araTetrafluorur de carboni (CF4), hexafluoroetà (C2F6), trifluorometà (CHF3) i perfluoropropà (C3F8). Aquests gasos poden generar eficaçment fluorurs volàtils quan graven compostos de silici i silici, aconseguint així l’eliminació de materials.

Gasos basats en clor: com el clor (CL2),Triclorur de Bor (BCL3)i tetraclorur de silici (SICL4). Els gasos basats en clor poden proporcionar ions de clorur durant el procés de gravat, cosa que ajuda a millorar la taxa de gravat i la selectivitat.

Gasos basats en brom: com el brom (BR2) i el iodur de brom (IBR). Els gasos a base de brom poden proporcionar un millor rendiment de gravat en determinats processos de gravat, sobretot quan graven materials durs com el carbur de silici.

Gasos basats en nitrogen i basats en oxigen: com el trifluorur de nitrogen (NF3) i l’oxigen (O2). Aquests gasos s’utilitzen generalment per ajustar les condicions de reacció en el procés de gravat per millorar la selectivitat i la direccionalitat del gravat.

Aquests gasos aconsegueixen un gravat precís de la superfície del material mitjançant una combinació de pultisme físic i reaccions químiques durant el gravat plasmàtic. L’elecció del gravat gas depèn del tipus de material a gravar, dels requisits de selectivitat del gravat i de la taxa de gravat desitjada.


Posada Posada: 08 de febrer de 2015