Clorur d'hidrogen (HCl)

Paràmetres tècnics:

El clorur d'hidrogen té la fórmula química HCl.Una molècula de clorur d'hidrogen està formada per un àtom de clor i un àtom d'hidrogen.És un gas incolor amb una olor picant.Gas corrosiu, no combustible, no reacciona amb l'aigua però és fàcilment soluble en aigua.Sovint està present a l'aire en forma de fums d'àcid clorhídric.El clorur d'hidrogen és fàcilment soluble en etanol i èter, i també soluble en moltes altres substàncies orgàniques;molt fàcilment soluble en aigua, a 0 °C, 1 volum d'aigua pot dissoldre aproximadament 500 volums de clorur d'hidrogen.La seva solució aquosa es coneix comunament com àcid clorhídric, i el seu nom científic és àcid clorhídric.L'àcid clorhídric concentrat és volàtil.El clorur d'hidrogen és incolor, amb un punt de fusió de -114,2 °C i un punt d'ebullició de -85 °C.No crema a l'aire i és tèrmicament estable.No es descompon fins a uns 1500 °C.Té una olor sufocant, una forta irritació a les vies respiratòries superiors i és corrosiu per als ulls, la pell i les mucoses.La densitat és més gran que l'aire.Les propietats químiques del clorur d'hidrogen sec són molt inactives.Els metalls alcalins i els metalls alcalinoterrosos poden cremar en clorur d'hidrogen i, quan es crema el sodi, emet una flama groc brillant.El clorur d'hidrogen s'utilitza a la indústria petroquímica per promoure l'eficàcia i la regeneració dels catalitzadors i augmentar la viscositat del petroli;es pot utilitzar per produir àcid clorosulfònic, cautxú sintètic, etc.;també es pot utilitzar per fer colorants, fragàncies, síntesi de fàrmacs, diversos clorurs i inhibidors de la corrosió, i netejar, decapat, galvanoplastia, adobar, refinar o fabricar metall dur.El gas de clorur d'hidrogen d'alta puresa s'utilitza àmpliament en els processos de creixement epitaxial de silici, polit en fase de vapor, gettering, gravat i neteja a la indústria electrònica.

Aplicació:

①Material:

La majoria de clorur d'hidrogen s'utilitza en la producció d'àcid clorhídric.També és un reactiu important en altres transformacions químiques industrials.

②Semiconductor:

A la indústria dels semiconductors, s'utilitza tant per gravar cristalls de semiconductors com per purificar silici mitjançant triclorosilà (SiHCl3).

③ Laboratori:

Al laboratori, les formes anhidres del gas són especialment útils per generar àcids de Lewis basats en clorur, que han d'estar absolutament secs perquè funcionin els seus llocs de Lewis.

Paquet normal:

Avantatges:

① Alta puresa, últimes instal·lacions;

②Fabricant del certificat ISO;

③Enviament ràpid;

④Sistema d'anàlisi en línia per al control de qualitat en cada pas;

⑤ Alt requisit i procés minuciós per a la manipulació del cilindre abans d'omplir;