Llista de preus barats per a gasos especials Subministrament a la Xina d'electrons/semiconductors Grau de puresa del 99,999% de tetrafluorur de carboni/tetrafluorometà CF4 Preu del gas

"Sinceritat, innovació, rigorositat i eficiència" pot ser la concepció persistent de la nostra organització a llarg termini per establir-la conjuntament amb els clients per a la reciprocitat mútua i el benefici mutu per a una llista de preus barats per a gasos especials Subministrament a la Xina d'electrons/semiconductors Grau de puresa del 99,999% de carboni Preu del gas tetrafluorur/tetrafluorometà CF4, sent una empresa jove en escalada, potser no som els més efectius, però estem fent tot el possible per ser, en general, la teva parella fantàstica.
"Sinceritat, innovació, rigorositat i eficiència" pot ser la concepció persistent de la nostra organització a llarg termini per establir-se conjuntament amb els clients per a la reciprocitat mútua i el benefici mutu perXina CF4 i CF4 Gas, "Creeu valors, servint al client!" és l'objectiu que perseguim. Esperem sincerament que tots els clients estableixin una cooperació a llarg termini i mútuament beneficiosa amb nosaltres. Si voleu obtenir més detalls sobre la nostra empresa, assegureu-vos de contactar amb nosaltres ara!

Paràmetres tècnics

El tetrafluorur de carboni és un hidrocarbur halogenat amb la fórmula química CF4. Es pot considerar com un hidrocarbur halogenat, metà halogenat, perfluorocarbur o com un compost inorgànic. El tetrafluorur de carboni és un gas incolor i inodor, insoluble en aigua, soluble en benzè i cloroform. Estable a temperatura i pressió normals, eviteu oxidants forts, materials inflamables o combustibles. Gas no combustible, la pressió interna del recipient augmentarà quan s'exposa a una calor elevada i hi ha perill d'esquerdes i explosions. És químicament estable i no inflamable. Només el reactiu metàl·lic líquid amoníac-sodi pot funcionar a temperatura ambient. El tetrafluorur de carboni és un gas que provoca l'efecte hivernacle. És molt estable, pot romandre a l'atmosfera durant molt de temps i és un gas d'efecte hivernacle molt potent. El tetrafluorur de carboni s'utilitza en el procés de gravat per plasma de diversos circuits integrats. També s'utilitza com a gas làser i s'utilitza en refrigerants de baixa temperatura, dissolvents, lubricants, materials aïllants i refrigerants per a detectors d'infrarojos. És el gas de gravat per plasma més utilitzat en la indústria de la microelectrònica. És una barreja de gas tetrafluorometà d'alta puresa i gas tetrafluorometà d'alta puresa i oxigen d'alta puresa. Es pot utilitzar àmpliament en silici, diòxid de silici, nitrur de silici i vidre de fosfosilicat. El gravat de materials de pel·lícula prima com ara el tungstè i el tungstè també s'utilitza àmpliament en la neteja de superfícies de dispositius electrònics, producció de cèl·lules solars, tecnologia làser, refrigeració a baixa temperatura, inspecció de fuites i detergent en la producció de circuits impresos. S'utilitza com a refrigerant a baixa temperatura i tecnologia de gravat en sec per plasma per a circuits integrats. Precaucions d'emmagatzematge: Emmagatzemar en un magatzem de gas no combustible fresc i ventilat. Mantenir allunyat del foc i de les fonts de calor. La temperatura d'emmagatzematge no ha de superar els 30 °C. S'ha d'emmagatzemar per separat dels combustibles i oxidants fàcilment (combustibles), i evitar l'emmagatzematge mixt. La zona d'emmagatzematge ha d'estar equipada amb equips de tractament d'emergència de fuites.

Aplicació:

① Refrigerant:

El tetrafluorometà s'utilitza de vegades com a refrigerant a baixa temperatura.

② Gravat:

S'utilitza en la microfabricació electrònica sol o en combinació amb oxigen com a gravador de plasma per a silici, diòxid de silici i nitrur de silici.

Paquet normal:

Avantatge:

① Alta puresa, últimes instal·lacions;

②Fabricant del certificat ISO;

③Enviament ràpid;

④Sistema d'anàlisi en línia per al control de qualitat en cada pas;

⑤ Alt requisit i procés minuciós per a la manipulació del cilindre abans d'omplir;